El gobierno de Estados Unidos intensificó las restricciones tecnológicas hacia China con el objetivo de limitar su acceso a maquinaria avanzada para la fabricación de semiconductores.
En el centro de esta estrategia se encuentra ASML, cuyos equipos de litografía de ultravioleta extremo son clave para producir chips de última generación. Estas herramientas han sido restringidas mediante acuerdos con aliados internacionales.
Las medidas también alcanzan tecnologías de ultravioleta profundo, utilizadas en procesos menos avanzados, con el fin de evitar que China reduzca la brecha tecnológica.
Ante este escenario, empresas chinas han recurrido a métodos alternativos para fabricar chips, aunque con mayores costos y menor eficiencia.
Además, una propuesta legislativa en Estados Unidos busca ampliar las restricciones a todo el ecosistema de semiconductores chino, lo que podría redefinir el equilibrio tecnológico global.
